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    電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗規程

    更新日期:2011-03-15  |  點(diǎn)擊率:5573

    1 試驗目的
    本標準用于考核材料及其防護層的抗鹽霧腐蝕能力,以及相似防護層的工藝質(zhì)量比較,也可用
    來(lái)考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕能力。
    本標準不作為通用的腐蝕試驗方法。
    2 試驗設備
    2.1 用于制造試驗設備的材料必須是抗鹽霧腐蝕的和不影響試驗結果的。
    2.2 試驗設備中的條件應該保持在本標準第3章規定的限度之內。
    2.3 鹽霧不得直接噴射到試驗樣品上。
    2.4 試驗設備內部的頂和壁等部位所聚集的水珠不得滴落在試驗樣品上。
    2.5 試驗設備內外氣壓必須平衡。
    3 試驗條件
    3.1 鹽溶液采用氯化鈉(化學(xué)純以上)和蒸餾水配置,其濃度為5±0.1%(重量)。物化后的收集液,除
    擋板擋回部分外,不得重復使用。
    3.2 霧化前的鹽溶液的PH值在6.5~7.2(35℃)之間。配置鹽溶液時(shí),允許采用化學(xué)純以上的稀鹽酸或
    氫氧化鈉水溶液來(lái)調整PH值,但濃度仍須符合地3.1條的規定。
    3.4 用面積為80cm2的漏斗收集連續霧化16h的鹽霧沉降量,有效空間內任一位置的沉降率為:
    1.0~2.0ml / h.80cm2。
    3.5 本標準采用連續霧化,推薦的標準試驗時(shí)間為16、24、48、96、168、336、672h。
    3.6 霧化時(shí)必須防止油污、塵埃等雜質(zhì)和噴射空氣的溫、影響有效空間的試驗條件。
    4 試驗程序
    4.1 初始檢測
    試驗前,試驗樣品必須進(jìn)行外觀(guān)檢查,以及按有關(guān)標準進(jìn)行其它項目的性能測定。試件樣品表
    面必須干凈、無(wú)油污、無(wú)臨時(shí)性的防護層和其它弊病。
    4.2 條件試驗
    試驗樣品不得相互接觸,它們的間隔距離應是不影響鹽霧能自由降落在試件樣品上,以及一個(gè)
    試驗樣品上的鹽溶液不得滴落在其它試驗樣品上。
    試驗樣品放置位置由有關(guān)標準確定,一般按產(chǎn)品和材料使用狀態(tài)放置(包括外罩等);平板試驗
    樣品需使受試面與垂直方向成30°角。
    試驗樣品放置后按第3章規定的試驗條件進(jìn)行條件試驗,試驗持續時(shí)間按有關(guān)標準規定從第3.5
    條的規定中選取。
    4.3 恢復
    試驗結束后,用流動(dòng)水輕輕洗掉試驗樣品表面鹽沉積物,再在蒸餾水中漂洗,洗滌水溫不得超
    過(guò)35℃,然后在標準的恢復大氣條件下恢復1~2h,或按有關(guān)標準規定的其它恢復條件和時(shí)間。
    4.4 zui后檢測
    恢復后的試驗樣品應及時(shí)檢查記錄,檢查項目、試驗結果評定和合格要求均由有關(guān)標準規定。
    4.5 采用本試驗方法時(shí),應對下列項目作出具體規定:
    a.初始檢測  b.安裝細節  c.試驗持續時(shí)間  d.恢復  e.zui后檢測
     

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